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2010塔器及塔内件展览会
发布者: 发布时间:2010/5/12 阅读:1672

    本月6~8日,我公司派代表参加了在上海举办的为期三天的“2010塔器及塔内件展览会”。此次展会邀请了国内在化工分离领域特别是塔内件、塔填料领域有深入研究并掌握重大科技成果的单位参展。与会期间,我公司的专利技术——由天津大学杜教授开发的新型垂直筛板New-VST及立体连续传质塔板LLCT受到了参展观众的特别关注及一致好评。
       通过此次展会,进一步推广了我公司的先进分离技术,向参展观众展示了我们天虹力拓的专业技能与热情。同时,在展会期间,与同行业相关单位进行了深入交流并达成了合作意向。
       为了继续深化我公司在传质分离技术领域的开发工作及工业化推广应用。在科技带头人的带领下,我们的技术团队会继续致力于高效,低排放节能环保塔内件的研发。
 
 

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